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  • 產品名稱:電子級氟素界面活性劑
  • 簡介:
  • 陰離子型-Novec?4200,4300


    簡介:

    Novec?4200

    是陰離子界面活性劑,由25%氟烷基磺酸亞酰銨鹽+75%水組成;適合用于緩沖型氫氟酸及稀釋型氫氟酸、起泡少,金屬含量超低(<500ppb)。

    另外,也可以加入去離子水做沖洗潤濕使用。

    Novec?4300

    是陰離子界面活性劑,由20%氟烷基磺酸胺+80%冰醋酸所組成,在低PH值的溶液中還能維持低表面張力。適合用于磷酸、醋酸、硝酸等混合酸【PAN】的金屬蝕刻液,也可作為鉻酸霧滴抑制劑,金屬離子含量<30 ppm。



詳細說明

適用:

建議添加量為0.02%-0.2%,可將溶液系統的表面張力降至18-35 dyne/cm為精密清洗用界面活性劑,適合半導體及相關制程

Novec?氟素界面活性劑?

為低金屬含量的界面活性劑,用來添加于各種制程的液體及涂料中,可降低表面張力,改善濕潤,平整及控制流量的特性。

例如:在半導體產業中,可改善金屬蝕刻液及其他水相的微電子制程中化學物質(如低pH溶液)的穿透性。也可作為光阻、光阻去除劑、芯片邊緣水珠去除液、抗反射涂料及旋轉式涂布玻璃膜中的潤濕劑。

Novec電子界面活性劑配方采用永續化學技術,可溶性極佳,容易混合,金屬含量低,可重覆連續過濾。

產品特色與優點

1.只需低濃度就有很好的效果

2.對蝕刻率的影響很小,幾乎沒有影響

3.泡沫少

4.可過濾

5.低表面吸附量

物性比較

Novec? 4200Novec? 4300
外觀澄清透明液體淺黃色液體
比重1.14g/cc1.1g/cc
粘度11.2cp
組成氟烷基磺酸亞酰胺銨鹽25%
水75%
氟烷基磺酸胺20%
冰醋酸80%
金屬含量<500ppb<30ppm


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